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uv光排除臭设置装备摆设除臭原理
作者:办理员    公布于:2017-09-30 08:22:56    笔墨:【】【】【
uv光排除臭设置装备摆设除臭原理
 
如今我们的产业开展得很快,但随之而来的是许多题目,臭气是一个题目。为了维护我们的情况和生命的平安,我们工场需求运用除臭剂设置装备摆设。那么除臭剂的除臭剂原理是什么呢?
高动力、接纳特别高臭氧紫外线紫外线光束,恶臭,恶臭气体的变革如:氨、三甲胺、硫化氢,硫化氢、甲硫醇、硫醚、二甲二硫、苯、二硫化碳和硫磺H2S,挥发性无机化合物,分子链构造的苯、甲苯、二甲苯、无机或无机聚合物有气息的化合物分子链,在高能束表露于太阳的紫外线,降解成低分子化合物,如二氧化碳、水等。
其次,应用高能紫外紫外线剖析氛围分子中的臭氧,发生游离氧,即活性氧,应用自在氧对电子正电子不屈衡,需求与发生臭氧的氧气联合。UV+ O2,O -+O *(活性氧)O +O2 - O3(臭氧),众所周知,臭氧对无机物有很强的氧化作用,对气息和其他安慰性气息有间接的影响。
三、fetor运用排气设置装备摆设输出污染设置装备摆设,污染设置装备摆设运用高能紫外紫外光和臭氧氧化反响的fetor协同剖析,使其fetor资料降解为低分子化合物,水和二氧化碳,再次经过排气管外。
4。应用高能紫外光照射在恶臭气体中的细菌分子链,毁坏细菌核酸(DNA),然后经过臭氧氧化反响,到达除臭杀灭细菌的目标。
公司自建立以来,与国际很多初等院校和科研单元程度国际外合作,获得了多项国度专利和适用新型专利,并翻译成技能产物范畴的专业程度和成熟的技能情况维护,一直站在中国环保财产的前沿。